機械振興賞　受賞者 業績概要詳細

　従来マスフローバルブを用いていた半導体製造装置において、半導体製造用集積化ガス供給システムの開発により、ガスパネルの課題であった小型化、メンテナンス性、外部リークの信頼性が解決した。
　ここでは、圧力制御式流量制御システムを開発し、供給圧力の変動による流量変動を抑えた。また、制御流量の精度向上により微細プロセスの流量安定性に寄与した。開発した流量制御システムの採用により、集積化ガス供給システムの小型化とコストダウンを達成した。これにより、ガス供給系の夢とされた水道方式によるガス供給（必要なガスを必要な量、バルブの開閉だけで供給可能にするシステム）が可能となり、揺らぎのない半導体製造用ガス供給システムが実現した。